一、我国研制出光学镀膜防伪材料(论文文献综述)
袁霞[1](2017)在《基于亚波长结构的三色防伪光变器研究》文中认为亚波长两色光变技术已成功应用于防伪领域十多年,随着技术的普及,有效性开始下降。本文围绕方位角调节的亚波长结构三色光变防伪技术展开研究,研究了双层波导光栅的衍射特性,构建科学的评价函数克服设计变量多、一维亚波长光栅偏振敏感等问题,设计了一种基于亚波长一维单周期矩形结构的三色防伪光变器。采用微纳加工和真空蒸镀工艺制作了三色光变器样品,以简单结构实现了方位角调节的、自然光的蓝、绿、红三色光变效应。本文从设计难度、光学性能、视觉效应方面突破现有亚波长结构滤波技术的局限性,主要研究成果如下:1.提出了一种基于嵌入式一维单周期亚波长矩形结构的三色防伪光变器,理论分析了该结构的衍射特性。由于目前商用Rsoft软件不能支持方位角调节的TE、TM波同时入射的亚波长结构优化,本文自编严格耦合波分析法程序,实现嵌入式一维单周期亚波长矩形结构衍射效率的计算。自编程序通过Rsoft软件的验证,为下一步亚波长结构三色防伪光变器的优化设计奠定了基础。2.分别设计了以Si3N4和ZnS为覆盖膜的基于聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate,PET)的亚波长结构三色防伪光变器。用TE、TM偏振光的叠加模拟自然光,建立科学有效的评价函数,结合严格耦合波法与遗传算法,优化得到三色光变器的最佳结构参数和产生蓝、绿、红光的入射方位角。模拟结果显示,在三个预设方位角下,以特定角度入射的TE、TM偏振光可同时在蓝、绿、红波段达到高反射效率。3.分析了亚波长结构三色防伪光变器的色散特性:材料色散主要影响反射波的共振位置,对整体反射效率影响不大。但反射峰的偏移在预设波段内,并不影响视觉效果;研究了关键结构参数和入射条件的变化对设计结果的影响规律:随着光变器周期、槽深、膜厚的增加,反射峰红移;随着入射角的增大,反射峰蓝移。其中,反射峰对周期最为敏感,在制作中要严格控制器件周期误差;同时给出了关键参数的冗余度,冗余度分析结果表明三色光变器具有良好的工艺可行性,对三色光变器的设计、制作和测试有重要指导作用。4.按参数冗余度分析结果严格控制工艺误差,根据实际镀膜情况进一步优化镀膜厚度,最终制作了Si3N4覆盖膜三色光变器,并对样品的结构和三色光变性能进行了测试和分析。测试表明:结构参数均控制在冗余度范围内,自然光照射下,随着方位角的改变,样品展现蓝、绿、红三色光变效果。测试结果与仿真结果一致。5.解释了光变器实现自然光三色光变效果的物理机理:一束平行白光照射亚波长波导光栅,除了零级衍射波,其他级次的波被耦合到波导层内成为导波,在传播过程中泄漏出去。当满足特定条件时,零级透射光与从波导光栅泄漏出去的透射光完全相消干涉,导致入射光完全反射,形成共振。进一步的等效介质理论分析表明,亚波长光栅的等效折射率依赖于入射光的方位角,不同方位角对应不同的等效折射率,因此有不同的共振波长与之相匹配。三色光变器使蓝、绿、红三种波长的反射光在对应的三个方位角上发生导模共振现象,从而实现方位角调节的三色光变效应。当光栅参数和入射角发生改变,反射峰随之红移或蓝移,是亚波长光栅外部传播的衍射场与波导光栅产生的泄漏模位相匹配的结果。部分位相不匹配的衍射光进入透射区域,引起共振响应的退化,表现为反射峰峰值的降低。本文提出的亚波长结构三色防伪光变器与现有的两色光变器件相比,设计难度更高,光学性能更好,视觉效应更丰富,因此防伪性能更好。其简单结构有利于制作高精度模板,后期可采用业界成熟的模压和镀膜工艺批量生产。以自然光为光源,方便公众在普通光照环境下识别,也可通过机读实现专家级防伪。因此在光变图像防伪领域具有重要的理论意义和应用价值。
寇洋[2](2016)在《告警探测系统中日盲紫外薄膜的关键技术研究》文中研究表明日盲紫外探测系统与常规探测系统相比,凭借其结构简单、虚警率低、灵敏度高、隐蔽性强等独特优势,已引起光学相关领域的广泛关注。该探测技术对光学系统成像质量和分辨率要求非常严格,光谱限制条件十分苛刻,因此光学薄膜技术成为研究的热点和关键技术。紫外波段可使用的材料有限,绝大部分材料本身对光谱有吸收,且沉积工艺复杂,由于膜层厚度较薄,膜厚控制误差较大,对实验设备控制精度要求很高,所以给紫外光学薄膜的设计和制备带来了一定的困难,这也是限制日盲紫外探测技术发展的主要原因。本课题在“十二五”计划“紫外信号XXXX技术”的支持下,对相关探测系统中光学薄膜进行深入研究,具体研究内容如下。(1)对薄膜材料和基底材料的特性进行研究,针对紫外波段可用的材料少、易吸收、内应力大、折射率匹配等问题,通过实验对紫外薄膜材料进行筛选,根据实测的光谱曲线,采用包络法分别计算模拟,获得紫外波段薄膜材料的光学常数。(2)针对日盲紫外系统探测的技术要求,设计四种膜系结构,包括紫外增透膜、干涉截止滤光膜、F-P带通滤光膜以及诱导透射滤光膜。基于光学薄膜的设计理论,结合实验设备的具体情况,借助Macleod、TFC等膜系设计软件,通过对膜层厚度、迭代层数、敏感度、匹配导纳等一系列参数的分析,并对膜厚误差进行模拟和反演,优选膜系结构。(3)对薄膜沉积工艺技术进行研究,由于真空室内工艺参数的微小变化均会导致误差的产生,尤其在紫外波段。通过对膜层敏感度,沉积材料的蒸发状态、蒸发工艺参数等研究,解决紫外薄膜厚度薄,沉积误差大的问题。针对紫外薄膜材料对光谱易吸收的问题,对不同工艺参数(真空度、温度、蒸发速率、离子源辅助技术)沉积的实验样片进行对比测试。通过优化工艺参数,以减小由于工艺因素引起的光谱吸收问题;采用切削因子的计算方法,并与实验获得的膜厚均匀性分布情况进行对比分析,制作均匀性补偿挡板;通过对离子源系统参数的深入研究,分析电子束蒸发时薄膜的微观结构,找出导致光谱漂移和膜层质量变差的原因,并在不同的参数下制备样片,分析其膜层的光谱和表面质量,从而优选离子源辅助沉积的工艺参数;由于紫外波段的金属膜厚度较薄,采用电子束蒸发给膜厚控制带来了很大的困难,通过调整电子枪的蒸发功率和蒸发时间以及膜厚控制仪的辅助监测,对所需厚度的金属膜层进行精确控制,实现膜厚控制的稳定性和重复性。(4)通过对误差的分析并采用膜系设计软件模拟和反演,找出引起误差的原因,从而进一步优化和调整工艺参数。干涉截止滤光膜每层厚度偏差的累积会导致透射区波纹的产生。由于实验设备仅配备有双探头,需要对厚度误差进行逆向反演分析,找出更换探头的膜层位置,从而提高膜厚控制精度,实现压缩通带波纹和提升透过率的目的;诱导透射滤光膜是由介质膜与金属膜组成,针对介质膜层与金属膜层沉积温度差异的问题,通过温度变化的试验分析,找出合理的紫外诱导滤光膜烘烤温度控制方法;F-P带通滤光膜是由多腔组成,对于紫外波段只能利用石英晶体控制法进行厚度控制,通过对石英晶体探测原理的研究,并针对厚度偏差进行分析模拟,通过修正不同膜层的工具因子,提高膜厚控制精度。本文所研制的光学薄膜涵盖了紫外、可见和近红外波段,即200nm1200nm,并且此波段的紫外薄膜具有背景透过率低,截止范围宽等特点。最终研制了四种紫外薄膜。与日盲型光电倍增管探测器匹配的滤光膜在240nm280nm处透过率达到86.64%,290nm360nm波段平均截止度小于千分之一,截止深度为OD3;与CCD探测器相匹配的滤光膜在260nm峰值透过率为17.96%,半波宽度小于20nm,在290nm1200nm截止深度大于OD4。通过环境监测,满足系统要求。
章兴洲[3](2014)在《环保型光学变色纳米薄膜材料的制备研究》文中研究说明光学变色材料是当今国际上公认的高级一线防伪材料,目前已经被广泛应用于烟包、有价证券、货币、酒标等防伪。在这种已经趋于成熟的生产技术中,光学变色随角异色材料从在设计开始,经一系列的生产工艺,到最终的产品,不可避免含有重金属。如何保持光学变色材料的随较异色效果,如亮度、色度、随角异色等,同时又能避开重金属,是当今光学变色随较异色材料发展中的一个技术难题。本研究在充分了解了国内外对纳米光学变色薄膜材料的研究过程及现状的基础上,提出并研究了无重金属环保型光学变色材料。本研究从5层对称结构着手,先后研究了4种材料结构的的环保型光学变色材料:(1).钛吸收层/氟化镁介质层/钛反射层/氟化镁介质层/钛吸收层;(2).钛吸收层/二氧化硅介质层/钛反射层/二氧化硅介质层/钛吸收层;(3).钛吸收层/二氧化硅介质层/铝反射层/二氧化硅介质层/钛吸收层;(4).二氧化硅保护层/钛吸收层/二氧化硅介质层/钛吸收层/二氧化硅介质层/钛吸收层/二氧化硅保护层。结果表明:用上述5种结构设计均能得到光学变色材料样品,其中结构设计1,氟化镁的制备工艺复杂性,不利于形成较好的随角异色产品;结构设计2,能得到比较理想的随角异色效果产品,但其亮度及抗腐蚀性方面有待改进;结构设计3,虽能大幅提高样品的亮度及鲜艳度,但抗腐蚀型略差;结构设计4,从结果上看,在随角异色、产品亮度等方面都比较理想。同时做了材料结构中的重金属检测,基本达到本研究预期。本研究制备的样品经检测,得出以下验证:(1)采用氟化镁作介质层材料,钛作吸收层、反射层材料的结构设计,理想的钛吸收层厚度为9nm,钛反射层厚度为70nm,同时,氟化镁用做介质层时,对设备要求较高,需增加离子辅助、烘烤等设备,否则制备的材料膜面不光滑,缺陷较多,大大影响产品性能。(2)用二氧化硅替代氟化镁,能制备出较好的环保型光学变色材料,其膜面比较光滑,能得到比较好的随角异色效果。(3)用铝做反射层,替代钛反射层,能大幅提高环保型光学变色材料的亮度及鲜艳度。但设计制备的样品,放置一段时间后,颜色会发生漂移,亮度、鲜艳度都会逐渐变差,分析可能是,钛在常温下表面会自然形成一层钛的氧化层,如二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛等,使钛的化学性质非常稳定,当钛作吸收层时,其厚度薄、又处于纳米状态,性质比较活泼,极容易形成钛的氧化物,改变钛吸收层的光学性质,导致随着时间的推移,颜色漂移、亮度及随角异色效果减弱。(4)在钛吸收层上增加一层5nm左右的二氧化硅层,不改变环保型光学变色材料的亮度、鲜艳度及随角异色等性能,同时大大增加了环保型光学变色材料的耐候性,使其能长时间保存。(5)本研究制备的环保型光学变色材料基本不含铅、砷、汞、镉重金属,含有少量的铬和镍,含量分别为36mg/kg、9.8mg/kg,可能是镀膜材料纯度不够,含有附带的少量铬、镍。
杨树本,徐玉江[4](2005)在《连续沉积硫化锌薄膜技术及设备的研制》文中研究表明本文介绍了ZZLD-2000/1.1高真空连续卷绕式硫化锌镀膜设备的原理、组成、性能及工作过程,并对设计和调试过程中出现的一些问题,进行了讨论分析。
晓舒[5](2002)在《特种光学镀膜材料》文中进行了进一步梳理
徐健[6](2020)在《应用于微加工的准分子激光关键技术研究》文中研究表明激光微加工技术是准分子激光技术的一个新的应用领域。准分子激光波长处于紫外和深紫外波段,具有单光子能量大、波长短等特点。相比于常见的可见段和红外段激光,准分子激光在半导体材料、脆性材料和高分子材料等材料的微加工具有独特的优势。目前国内的研究主要集中在探索不同激光参数对材料微加工的影响,在准分子激光微加工系统方面研究较少。激光微加工技术首先要求激光能量稳定性高、光束质量良好,准分子激光器由于采用放电泵浦方式,其输出激光能量稳定性、光束质量等均受高压电容充电电源系统性能的影响。目前国内在应用于紧凑型准分子激光器的高压电容充电电源系统方面研究较少。本文创新性地研究出适用于紧凑型准分子激光器的工作在脉冲应用下的紧凑型高压电容充电电源系统和适用于电源在脉冲应用下的功率因数校正(Power Factor Correction,PFC)电路系统。电源实现输出10 k V~21 k V范围精确可调、充电精度±1%、校正后的功率因数达到98%,显着提高准分子激光能量稳定性和能量转移效率,满足了微加工的应用需求。准分子激光器直接输出的激光在光斑尺寸、能量均匀性等方面都不适合直接作为微加工光源使用。国内基于紫外和深紫外波段的准分子激光微加工光路系统研究较少,本文创新性地设计出基于紫外和深紫外波段的准分子激光微加工光路系统,基于光学成像技术,克服了准分子激光传输和精细作用区域控制的困难。获得激光光斑最小直径50μm且50μm~100μm范围精确可调,光斑形状、能量均匀性、边缘特性良好。微加工光路系统性能稳定,满足了微加工的应用需求。最后本文搭建了一套完整的193 nm准分子激光微加工实验平台,结合上位机控制软件,实现了系统的稳定运行和良好控制。对树脂镜片进行了相关微加工实验,探究激光的重复频率、能量密度、脉冲数量等参数对树脂镜片微加工过程和效果的影响。对准分子激光在微加工领域的理论研究和工程应用均有一定的参考价值。
王航[7](2019)在《多波段隐身薄膜性能优化及卷绕式制备技术研究》文中研究表明目前,多波段侦察探测设备对装备和人员构成了很大威胁,这就提出了研究与之相适应的隐身技术的需求,从而提高上述目标的生存能力。本文在本课题组研究成果的基础上,对基于一维光子晶体的隐身薄膜展开进一步研究,主要包括兼容隐身波段的拓展、特殊场合的性能提高和规模化制备工艺的探索。在波段拓展方面,分析了可见光、热红外、激光和雷达波兼容的隐身原理,为多波段兼容隐身的实现提供了理论支撑;通过改变介质厚度、替换新的介质和插入新的介质三种方式在远红外隐身光子晶体的8~14μm高反射带中引入杂质态,以降低材料对10.6μm激光的反射,并分析了杂质态的特性;在此基础上,设计了一种可见光、远红外与双激光(1.06μm、10.6μm)兼容隐身光子晶体结构,以及一种可见光、中远红外与多激光(0.93μm、1.06μm、10.6μm)兼容隐身光子晶体结构;最后对设计的光子晶体进行了制备,并利用可见光相机、扫描电镜、中远红外热像仪、傅里叶变换光谱仪和矢量网络分析仪对制备出的材料进行了性能测试和分析。测试结果表明,在可见光波段,不同颜色的薄膜可以拼接成变形迷彩,从而达到歪曲目标的外形的目的;在中远红外波段,薄膜具有较低的红外发射率,可以明显的抑制目标在3~5μm和8~14μm波段内的辐射;在激光波长处,薄膜具有较低的反射率,可以明显降低对应激光的回波功率。在性能提高方面,首先对隐身薄膜的优化算法进行了分析,为高性能隐身薄膜的设计提供了基础;针对普通隐身薄膜在白天容易反光的问题,为了降低隐身薄膜可见光探测的显着性,设计并制备了低光泽度热隐身薄膜;针对普通的红外隐身材料散热性能差的问题,为了避免热源目标因热量累积而导致设备损坏或隐身性能下降,通过提高热红外在5~8μm波段的透过率提高了隐身薄膜的散热性能;针对过窄的激光吸收峰难以满足大入射角激光隐身的问题,为了提高薄膜的激光隐身性能,通过拓宽“光子局域”的方法提高了薄膜隐身性能对激光入射角度的适应性。在规模化制备工艺方面,从理论上分析了卷绕式真空电子束蒸发镀膜的工作原理,得到了膜料沉积厚度、膜料蒸发速率与基底传动速率之间的数值关系;分析了膜料在基底上沉积的均匀性,并设计了均匀性修正挡板的形状,经过制备和测试,发现得到的薄膜具有较好的热红外隐身性能,表明卷绕式真空电子束蒸发镀膜方式确实可以提高隐身薄膜的制备效率。本文为基于一维光子晶体的隐身薄膜的性能提高和实用化进一步奠定了基础。
李志远[8](2019)在《高效稳定可调稀土紫外增强薄膜的制备与性能研究》文中进行了进一步梳理近年来,紫外探测技术被广泛应用于指纹识别,物质分析,紫外通信,高压电晕情况分析以及自然灾害预报等众多领域。AlGaN和SiC材料制备的新型宽禁带紫外半导体成像器件虽然有着良好的性能,但是因为材料质量、器件制备工艺等技术条件的局限,短期内很难得以大范围的应用。利用硅基光电探测器件进行工艺改进来实现深紫外光探测成为一种有效途径。其中以镀制紫外增强膜进行工艺改进的方法很好地满足了现有条件下器件制备的难易程度、成本考量、增强效果等综合要求。常用的紫外镀膜材料为有机分子Lumogen,该材料虽然有着较好的荧光性能,但是存在着有机材料稳定性差、无法窄波段紫外探测、成膜方式单一且工艺复杂等诸多限制。因此,制备出能够实现窄波段紫外探测、稳定性良好、成膜工艺简单且增强效果明显的新型紫外增强材料显得十分必要。稀土配合物作为一类发光性能优异的荧光材料,且能够通过改变有机配体结构实现不同紫外波段的吸收,进行达到荧光可调的效果。本文将中心发光单元Eu3+优异的荧光性能与苯甲酸类、噻吩甲酰三氟丙酮类有机配体的可调性进行结合利用,成功地制备出了新型的高效可调的紫外增强材料及薄膜。但是,在光、热稳定性的表征测试中发现,稀土配合物材料虽然荧光性能优异,但是稳定性较差。为了解决这一问题实现更好的紫外增强效果,我们引入了稳定性更好的氧化石墨烯与稀土配合物进行氢键复合。实验结果表明,氧化石墨烯的引入不仅能够保持稀土配合物紫外增强材料高效可调的荧光性能,还能有效提高其光、热稳定性能,实现高效稳定可调的紫外增强性能。为了得到更高性能的PVA复合紫外增强薄膜,我们从PVA含量、荧光材料含量、薄膜厚度三方面进行性能优化,得出了PVA复合紫外增强薄膜制备的最优配比。将最优配比应用于紫外增强器件制备中,成功制备出性能良好的紫外增强CCD。由测试数据可知其在紫外增强性能、可调探测性能、响应度三方面均有较好的测试结果。此外,该制备工艺简单高效,并且具备向面阵紫外探测领域拓展的能力。
朱丹[9](2019)在《磁控溅射制备光致变色玻璃及性能的研究》文中指出随着人们生活水平的提高和环保意识的增强,普通的建筑材料已经不能满足人们的需求,拥有特殊性能的材料越来越受到人们的关注,新型的功能材料不仅拥有普通建筑所拥有的一些特点,同时还具备节能环保的功能,如今新型的功能材料的已经成为今后建筑领域的研究方向之一,光致变色材料就是如今比较热门的一类新型材料,尤其是近几年光致变色材料的研究成为了一个新的热点,光致变色材料以其独特的光致变色、高可见光透过率、节能保温及装饰美化等功能,在未来建材市场中拥有良好的应用前景。光致变色玻璃就是利用先进的技术在玻璃的表面镀制一层或多层金属、过渡金属氧化物或者金属卤化物,利用金属、过渡金属氧化物或者金属卤化物的变色性能来实现镀膜玻璃颜色的改变,光致变色玻璃不仅拥有普通玻璃的优点,同时,还可以降低紫外线对室内的辐射率,减少室内外热量的传递,起到节约能源的作用。本文的研究目的之一是在普通钠钙玻璃基底上采用射频磁控溅射技术制备内层TiO2薄膜,外层ZnO薄膜,功能层为W03薄膜,从而构成TiO2-WO3-ZnO光致变色玻璃。通过单因素变量分析得到适宜膜系生长的溅射参数,并采取SEM、XRD、紫外-可见分光光度计、傅立叶-红外光谱仪、石英晶体膜厚监测仪和接触角等分别对薄膜的形貌、物相、可见光透过率、远红外反射率和疏水性能进行测试。本文的研究目的之二是利用溶胶-凝胶的方法在普通的玻璃基底上制备TiO2-WO3-ZnO光致变色玻璃,并将制备的TiO2-WO3-ZnO变色玻璃与磁控溅射制备的TiO2-WO3-ZnO变色玻璃进行比较,主要从原材料的选取、可见光透过率、薄膜的表面形貌和膜基结合力的方面来进行比较,这进一步说明了磁控溅射制备的TiO2-WO3-ZnO光致变色玻璃不仅拥有良好的变色效率,更是说明该方法制备的薄膜细腻,平整,与衬底的结合力强,再一次证明了 TiO2-WO3-ZnO变色玻璃的性能。通过比较可以发现,利用磁控溅射的方法制备的TiO2-WO3-ZnO光致变色玻璃不仅拥有良好的变色效果,同时还能够起到保温隔热的作用,减少了能源的消耗,该方法制备的薄膜在衬底表面晶粒大小分散均匀,致密、均匀,膜基结合力强,镀膜玻璃的机械性能良好。薄膜表面平整、致密、连续性较好,并且物质的表面粗糙度较低,将对减轻物体表面薄膜的散射和反射有帮助。磁控溅射方法制备的TiO2-WO3-ZnO光致变色玻璃与普通玻璃比较,该方法制备的光致变色还拥有自洁净的效果,减少了玻璃表面的污染物,增加玻璃的洁净度。该镀膜玻璃的机械性能良好,室内采光度也符合国家的标准。
罗军文[10](2014)在《双排全幅宽无间隔布局快速蒸发ZnS镀膜技术的研究》文中研究说明本文详细介绍了双排全幅宽无间隔布局快速蒸发ZnS镀膜技术的工作原理、结构组成、性能特点和创新设计要点。分析并指出影响ZnS镀膜质量、生产效益的主要因素和解决途径。重点论述了提高ZnS镀膜速度和膜层均匀性的科学依据,解决了当前高档激光防伪膜制作中出现的镀膜效率低、均匀性差、光学性能不稳定等难题。首创折回式条带状折槽形式Mo蒸发舟和蒸发气体均匀分配器结构及独特的蒸发舟双连排全幅宽无间隔连续排列布局,使ZnS镀膜速度达到400 m/min以上,整个幅宽面镀膜的均匀性控制在5%以内。
二、我国研制出光学镀膜防伪材料(论文开题报告)
(1)论文研究背景及目的
此处内容要求:
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景,再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题,并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例:
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
(2)本文研究方法
调查法:该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法:用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法:通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法:通过调查文献来获得资料,从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法:依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法:对研究对象进行“质”的方面的研究,这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法:通过具体的数字,使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法:运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法:这是社会科学用来分析社会现象的一种方法,从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法:通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、我国研制出光学镀膜防伪材料(论文提纲范文)
(1)基于亚波长结构的三色防伪光变器研究(论文提纲范文)
摘要 |
Abstract |
第1章 绪论 |
1.1 防伪技术概述 |
1.2 光变图像防伪技术 |
1.3 基于亚波长结构光变图像防伪技术的国内外研究现状 |
1.4 亚波长结构光学元件的制作和复制技术 |
1.4.1 纳米压印模板的制作 |
1.4.2 亚波长结构光学元件的复制技术 |
1.5 本文的主要研究内容及创新点 |
1.5.1 本文的主要研究内容 |
1.5.2 本文的创新点 |
1.5.3 本文的结构 |
1.6 本章小结 |
第2章 亚波长结构三色防伪光变器的理论基础 |
2.1 亚波长结构的滤波原理 |
2.1.1 导模共振效应 |
2.1.2 等效波导模型 |
2.2 严格耦合波分析法 |
2.2.1 矢量衍射理论概况 |
2.2.2 任意偏振光入射双层亚波长波导光栅的严格耦合波分析法 |
2.3 遗传优化算法 |
2.4 本章小结 |
第3章 亚波长结构三色防伪光变器的设计及分析 |
3.1 亚波长结构三色防伪光变器的设计 |
3.1.1 亚波长结构三色防伪光变器仿真模型的建立 |
3.1.2 严格耦合波程序的编制及验证 |
3.1.3 评价函数的建立 |
3.1.4 遗传算法优化 |
3.2 设计结果及验证 |
3.3 亚波长结构三色防伪光变器的物理机理分析 |
3.4 材料色散分析 |
3.5 关键参数冗余度分析 |
3.5.1 周期冗余度分析 |
3.5.2 槽深冗余度分析 |
3.5.3 膜厚冗余度分析 |
3.5.4 入射角冗余度分析 |
3.5.5 结论 |
3.6 基于ZnS覆盖膜三色光变器的设计及分析 |
3.6.1 基于ZnS覆盖膜三色光变器的设计 |
3.6.2 材料色散分析 |
3.6.3 参数冗余度分析 |
3.6.4 结论 |
3.7 本章小结 |
第4章 亚波长三色防伪光变器的制作及测试 |
4.1 Si模板制作及结构测试 |
4.1.1 电子束曝光 |
4.1.2 电感耦合等离子体反应离子刻蚀(ICP-RIE) |
4.1.3 工艺参数及结构测试 |
4.2 PET版制作及结构测试 |
4.2.1 软刻蚀 |
4.2.2 紫外压印 |
4.2.3 电镀 |
4.2.4 热压印 |
4.2.5 结构测试 |
4.3 镀膜工艺及结构测试 |
4.3.1 镀膜工艺简介 |
4.3.2 蒸发镀膜 |
4.3.3 确定镀膜厚度 |
4.3.4 工艺参数及膜厚测试 |
4.4 亚波长结构三色防伪光变器反射效率测试分析 |
4.5 本章小结 |
第5章 总结与展望 |
5.1 论文的主要研究成果 |
5.2 展望 |
参考文献 |
致谢 |
攻读博士学位期间的研究成果 |
(2)告警探测系统中日盲紫外薄膜的关键技术研究(论文提纲范文)
摘要 |
ABSTRACT |
第一章 绪论 |
1.1 引言 |
1.2 研究目的及意义 |
1.3 日盲紫外系统研制现状 |
1.4 紫外波段薄膜研究现状 |
1.5 本论文主要研究内容 |
1.6 小结 |
第二章 光学薄膜的基础理论 |
2.1 单层膜与多层膜的矩阵计算方法 |
2.2 对称膜系基础理论 |
2.3 增透膜基础理论 |
2.4 F-P带通滤光膜基础理论 |
2.5 诱导透射滤光膜基础理论 |
2.6 小结 |
第三章 紫外薄膜材料特性研究 |
3.1 基底材料选择 |
3.2 介质材料选择 |
3.3 金属材料选择 |
3.4 薄膜材料的光学常数计算 |
3.4.1 材料折射率的计算 |
3.4.2 材料吸收理论分析 |
3.4.3 不同膜系的吸收特性研究 |
3.4.4 材料散射分析 |
3.5 小结 |
第四章 日盲紫外薄膜的膜系设计 |
4.1 日盲紫外膜系的设计方法分析 |
4.2 光电倍增管型探测系统的膜系设计 |
4.2.1 紫外干涉截止滤光膜的设计 |
4.2.2 紫外增透膜的设计 |
4.3 CCD型探测系统的膜系设计 |
4.3.1 紫外F-P带通滤光膜的设计 |
4.3.2 紫外诱导透射滤光膜的设计 |
4.4 小结 |
第五章 薄膜沉积工艺技术研究 |
5.1 工艺参数研究 |
5.1.1 真空度对薄膜性能影响 |
5.1.2 蒸发速率研究 |
5.1.3 烘烤温度研究 |
5.2 膜厚均匀性控制技术研究 |
5.3 膜层致密性研究 |
5.4 金属膜厚度控制方法的研究 |
5.4.1 光电效应极值监控法 |
5.4.2 石英晶体膜厚监控法 |
5.5 基片表面洁净方法研究 |
5.6 小结 |
第六章 误差分析与工艺优化技术研究 |
6.1 干涉截止滤光膜厚度的精确控制 |
6.2 蒸发温度影响因素的分析 |
6.3 离子源辅助沉积参数优化分析 |
6.4 F-P带通滤光膜厚度控制方法的改进 |
6.5 工艺流程的制定 |
6.6 膜层质量和光谱特性测试 |
6.7 小结 |
第七章 结论与展望 |
7.1 论文主要工作 |
7.2 论文创新点 |
7.3 存在的问题和后期工作展望 |
致谢 |
参考文献 |
攻读博士学位期间的学术成果 |
(3)环保型光学变色纳米薄膜材料的制备研究(论文提纲范文)
摘要 |
Abstract |
第1章 光学变色材料 |
1.1 前言 |
1.2 光学变色材料的原理 |
1.3 光学变色颜料(OVP) |
1.4 光学变色油墨(OVI) |
1.5 环保型光学变色材料 |
1.6 磁性光学变色材料 |
第2章 光学薄膜及光学镀膜材料 |
2.1 光学薄膜 |
2.1.1 光学薄膜的特点 |
2.1.2 光学薄膜的基本原理 |
2.1.3 光学薄膜的制造方式 |
2.1.4 应用及市场前景 |
2.2 光学镀膜材料 |
2.2.1 光学镀膜材料的分类 |
2.2.2 光学镀膜材料的特点 |
2.2.3 光学镀膜材料的表观颜色 |
2.2.4 常见的镀膜材料介绍 |
第3章 真空技术与真空镀膜 |
3.1 真空 |
3.2 真空度 |
3.3 真空区域的划分 |
3.4 真空测量 |
3.4.1 真空泵的基本参数 |
3.4.2 真空泵的抽速和真空机组配置 |
3.4.3 真空泵的使用范围 |
3.4.4 分子泵 |
3.4.5 机械泵 |
3.4.6 罗茨泵 |
3.4.7 有扩散泵 |
3.4.8 真空镀膜 |
第4章 实验设备 |
4.1 设备概况 |
4.2 抽气系统 |
4.3 蒸发系统 |
4.3.1 阻蒸系统 |
4.3.2 电子束蒸发源 |
第5章 环保型光学变色纳米薄膜材料的的结构设计 |
5.1 概述 |
5.2 环保型光学变色材料光学薄膜设计原理 |
5.3 环保型光学变色材料光学薄膜结构设计 |
5.3.1 结构设计1 |
5.3.2 结构设计2 |
5.3.3 结构设计3 |
5.3.4 结构设计4 |
第6章 环保型光学变色纳米薄膜材料的制备研究 |
6.1 实验镀膜材料 |
6.2 环保型光学变色材料的制备 |
6.2.1 光学厚度设计 |
6.2.2 真空沉积制备 |
6.3 检测 |
6.4 结果与分析 |
6.4.1 结构设计1 |
6.4.2 结构设计2 |
6.4.3 结构设计3 |
6.4.4 结构设计4 |
6.4.5 重金属成分分析 |
6.5 结论 |
第7章 论文总结与展望 |
7.1 论文总结 |
7.2 论文展望 |
参考文献 |
攻读硕士期间已发表的论文 |
致谢 |
(6)应用于微加工的准分子激光关键技术研究(论文提纲范文)
致谢 |
摘要 |
abstract |
第一章 绪论 |
1.1 研究背景及意义 |
1.2 准分子激光微加工关键技术研究进展 |
1.3 准分子激光微加工技术的应用领域 |
1.3.1 微电子工业 |
1.3.2 光学 |
1.3.3 激光打标 |
1.4 论文的研究内容及创新点 |
第二章 准分子激光微加工技术 |
2.1 准分子激光 |
2.2 准分子激光与材料相互作用机理 |
2.2.1 光化学作用 |
2.2.2 光热作用 |
2.2.3 光化学-光热复合作用 |
2.3 准分子激光微加工的主要影响因素 |
2.3.1 高压电容充电电源 |
2.3.2 微加工光路系统 |
2.3.3 准分子激光参数 |
2.4 本章小结 |
第三章 准分子激光微加工系统的关键技术 |
3.1 微加工系统总体结构和关键技术分析 |
3.2 紧凑型高压电容充电电源系统设计 |
3.2.1 高功率密度主拓扑结构设计 |
3.2.2 紧凑型高频高压变压器设计 |
3.2.3 高稳定驱动和保护电路系统设计 |
3.3 PFC电路系统设计 |
3.3.1 PFC电路结构和原理 |
3.3.2 主要功率元件设计 |
3.4 准分子激光微加工光路系统设计 |
3.4.1 微加工光路系统方案及设计 |
3.4.2 微加工光路系统装置 |
3.5 准分子激光微加工光路系统技术及原理分析 |
3.5.1 能量衰减技术 |
3.5.2 光斑均匀化技术 |
3.5.3 微加工光路系统原理分析 |
3.6 本章总结 |
第四章 准分子激光微加工系统测试及分析 |
4.1 搭建193nm准分子激光微加工系统实验平台 |
4.2 紧凑型高压电容充电电源系统测试及分析 |
4.2.1 电源系统性能测试及分析 |
4.2.2 准分子激光器输出能量测试及分析 |
4.3 PFC电路系统性能测试及分析 |
4.3.1 有无PFC电源系统性能测试及分析 |
4.3.2 有无PFC准分子激光器性能测试及分析 |
4.4 准分子激光微加工光路系统测试及分析 |
4.5 不同激光参数对微加工表面形貌的影响 |
4.5.1 重复频率对微加工形貌的影响 |
4.5.2 脉冲数量对微加工形貌的影响 |
4.5.3 能量密度对微加工形貌的影响 |
4.6 本章小结 |
第五章 总结和展望 |
5.1 总结 |
5.2 展望 |
参考文献 |
攻读硕士学位期间的学术成果情况 |
(7)多波段隐身薄膜性能优化及卷绕式制备技术研究(论文提纲范文)
摘要 |
ABSTRACT |
第一章 绪论 |
1.1 课题的背景和意义 |
1.2 红外隐身材料的研究现状 |
1.2.1 低红外发射率涂层研究现状 |
1.2.2 低红外发射率薄膜研究现状 |
1.3 多波段兼容隐身材料研究现状 |
1.3.1 红外与激光兼容隐身材料研究现状 |
1.3.2 红外与可见光兼容隐身材料研究现状 |
1.3.3 红外与雷达兼容隐身材料研究现状 |
1.4 多波段兼容隐身薄膜的存在问题和解决思路 |
1.5 论文的主要研究内容及章节 |
第二章 一维光子晶体隐身波段拓展 |
2.1 多波段兼容隐身原理分析 |
2.1.1 可见光隐身原理分析 |
2.1.2 热红外隐身原理分析 |
2.1.3 激光隐身原理分析 |
2.1.4 雷达波隐身原理分析 |
2.1.5 多波段兼容隐身原理 |
2.2 光子晶体电磁波传输特性的数值分析方法 |
2.2.1 传输矩阵法概述 |
2.2.2 传输矩阵法计算一维光子晶体带隙特性 |
2.3 一维光子晶体掺杂特性研究 |
2.3.1 本征光子晶体的带隙特性 |
2.3.2 掺杂光子晶体结构的确定 |
2.4 多波段兼容隐身薄膜设计 |
2.4.1 可见光、远红外与双激光兼容隐身光子晶体设计 |
2.4.2 可见光、中远红外与多激光兼容隐身光子晶体设计 |
2.5 本章小结 |
第三章 光子晶体隐身薄膜的制备与性能测试 |
3.1 制备方式和工艺 |
3.2 可见光、远红外与双激光兼容隐身薄膜的制备和检测 |
3.2.1 可见光照片 |
3.2.2 微观结构 |
3.2.3 远红外隐身性能 |
3.2.4 可见光-红外反射光谱测试 |
3.2.5 雷达波透波性能测试与分析 |
3.3 可见光、中远红外与多种激光兼容隐身薄膜的制备和测试 |
3.3.1 可见光照片 |
3.3.2 微观结构 |
3.3.3 热红外隐身效果 |
3.3.4 可见光-红外反射光谱特征 |
3.4 隐身薄膜红外发射率测试研究 |
3.4.1 利用热像仪测红外发射率的原理 |
3.4.2 中、远红外室内发射率测试过程与结果 |
3.5 隐身薄膜应用于不同温度目标的红外隐身性能研究 |
3.5.1 隐身薄膜应用于车辆的红外隐身性能研究 |
3.5.2 隐身薄膜应用于高温目标的红外隐身性能研究 |
3.6 本章小结 |
第四章 隐身薄膜的光泽度、散热性和激光隐身角度范围的性能提高 |
4.1 光子晶体薄膜的优化设计方法 |
4.1.1 光学薄膜的优化设计 |
4.1.2 自动设计的评价函数 |
4.1.3 自动设计的优化算法 |
4.1.4 优化设计方法的一般过程 |
4.2 隐身薄膜光泽度的降低 |
4.2.1 概述 |
4.2.2 理论分析 |
4.2.3 结构设计和优化过程 |
4.2.4 制备、测试和结果分析 |
4.3 隐身薄膜散热性能的提高 |
4.3.1 热隐身材料散热特性分析 |
4.3.2 结构优化设计 |
4.3.3 制备与测试分析 |
4.4 隐身薄膜激光隐身角度范围的扩展 |
4.4.1 激光入射角度变化对薄膜隐身特性影响分析 |
4.4.2 结构的优化设计与分析 |
4.5 本章小结 |
第五章 隐身薄膜的卷绕式制备技术研究 |
5.1 卷绕镀膜原理和基本流程 |
5.1.1 卷绕镀膜设备及原理 |
5.1.2 镀膜流程 |
5.2 存在问题与重难点分析 |
5.3 薄膜沉积厚度分析 |
5.4 薄膜成膜均匀性分析与修正 |
5.4.1 概述 |
5.4.2 材料在基底幅宽方向(y方向)的沉积速率 |
5.4.3 带材上传动方向(x方向)成膜厚度 |
5.4.4 实验验证 |
5.5 薄膜沉积均匀性修正 |
5.5.1 修正挡板设计 |
5.5.2 实验与结果分析 |
5.6 本章小结 |
结束语 |
致谢 |
参考文献 |
作者在学期间取得的学术成果 |
(8)高效稳定可调稀土紫外增强薄膜的制备与性能研究(论文提纲范文)
致谢 |
摘要 |
abstract |
第一章 绪论 |
1.1 引言 |
1.2 紫外探测技术 |
1.3 紫外增强技术应用前景 |
1.4 紫外增强材料研究现状 |
1.5 稀土配合物及其薄膜制备现状 |
1.6 本文研究工作及章节内容安排 |
第二章 稀土配合物紫外增强薄膜的制备与性能研究 |
2.1 引言 |
2.2 主要实验材料与仪器设备 |
2.3 稀土配合物紫外增强材料的制备 |
2.3.1 苯甲酸类稀土配合物的制备 |
2.3.2 bpy-苯甲酸类稀土配合物的制备 |
2.3.3 phen-苯甲酸类稀土配合物的制备 |
2.3.4 TTA类稀土配合物的制备 |
2.4 稀土配合物紫外增强薄膜的制备 |
2.4.1 混合胶液的制备 |
2.4.2 紫外增强薄膜的制备 |
2.5 稀土配合物紫外增强材料的表征与分析 |
2.5.1 红外光谱 |
2.5.2 吸收光谱 |
2.5.3 乙醇溶液荧光图像 |
2.5.4 稀土配合物微观结构图 |
2.6 稀土配合物紫外增强薄膜的表征与分析 |
2.6.1 吸收光谱 |
2.6.2 荧光光谱 |
2.6.3 光稳定性表征 |
2.6.4 热稳定性表征 |
2.6.5 可调性能表征 |
2.7 本章小结 |
第三章 GOSs-稀土配合物紫外增强薄膜的制备与性能研究 |
3.1 引言 |
3.2 GOSs-稀土配合物紫外增强材料的制备 |
3.2.1 实验材料与测试仪器 |
3.2.2 GOSs-稀土配合物的制备 |
3.3 稀土配合物紫外增强薄膜的制备 |
3.3.1 混合胶液的制备 |
3.3.2 紫外增强薄膜的制备 |
3.4 GOSs-稀土配合物紫外增强材料/薄膜的表征与分析 |
3.4.1 红外光谱 |
3.4.2 吸收光谱 |
3.4.3 荧光光谱 |
3.4.4 SEM图像与荧光图像分析 |
3.4.5 光稳定性表征 |
3.4.6 热稳定性表征 |
3.4.7 可调性能表征 |
3.5 本章小结 |
第四章 紫外增强薄膜的优化及增强器件的制备与性能测试 |
4.1 引言 |
4.2 实验材料与测试仪器 |
4.2.1 荧光分布表征原理 |
4.3 聚合物PVA含量对紫外增强薄膜性能的影响 |
4.3.1 吸收光谱 |
4.3.2 荧光分布表征 |
4.3.3 薄膜形貌表征 |
4.4 荧光材料含量对紫外增强膜性能的影响 |
4.4.1 吸收光谱 |
4.4.2 荧光分布表征 |
4.4.3 薄膜形貌表征 |
4.5 薄膜厚度对紫外增强膜性能的影响 |
4.5.1 吸收光谱 |
4.5.2 荧光分布表征 |
4.5.3 薄膜形貌表征 |
4.6 增强器件的制备与性能表征 |
4.6.1 紫外增强CCD的制备 |
4.6.2 紫外增强CCD性能表征 |
4.7 本章小结 |
第五章 结论 |
参考文献 |
攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 |
(9)磁控溅射制备光致变色玻璃及性能的研究(论文提纲范文)
摘要 |
Abstract |
1 绪论 |
1.1 光致变色材料的综述 |
1.1.1 光致变色现象 |
1.1.2 光致变色材料的分类 |
1.1.3 光致变色材料的研究现状 |
1.2 光致变色材料-过渡金属氧化物的概述 |
1.2.1 常见的过渡金属氧化物 |
1.2.2 过渡金属氧化物的变色原理 |
1.2.3 影响过渡金属氧化物光致变色性能的因素 |
1.3 镀膜玻璃的概述 |
1.3.1 镀膜玻璃的分类 |
1.3.2 镀膜玻璃的制备方法 |
1.3.3 国内外镀膜玻璃的发展现状 |
1.4 薄膜的理论基础 |
1.4.1 薄膜的形成理论 |
1.4.2 薄膜的生长方式 |
1.5 本课题研究的内容及方法 |
2 实验与测试 |
2.1 实验原料 |
2.1.1 氧化钨靶材 |
2.1.2 氧化锌靶材 |
2.1.3 氧化钛靶材 |
2.1.4 玻璃基片 |
2.1.5 工作气体 |
2.2 实验仪器 |
2.2.1 磁控溅射仪 |
2.2.2 超声波清洗器 |
2.2.3 电热鼓风干燥箱 |
2.2.4 紫外线分析仪 |
2.3 实验简介 |
2.3.1 镀膜工艺流程 |
2.3.2 磁控溅射的工作原理 |
2.4 材料的性能测试 |
2.4.1 紫外-可见分光光度计(UV-Vis) |
2.4.2 粗糙度测试仪(Taylor-Hobson) |
2.4.3 扫描电子显微镜(SEM) |
2.4.4 X射线衍射仪(XRD) |
2.4.5 显微硬度计 |
2.4.6 傅里叶变换红外光谱仪 |
2.4.7 接触角 |
2.4.8 石英晶体膜厚监测仪 |
2.5 本章小结 |
3 WO_3和TiO_2薄膜的制备 |
3.1 WO_3薄膜的制备 |
3.1.1 WO_3薄膜工艺参数的确定 |
3.1.2 WO_3薄膜可见光透过率分析 |
3.1.3 WO_3薄膜的粗糙度分析 |
3.1.4 WO_3薄膜的表面形貌分析 |
3.2 TiO_2薄膜的制备 |
3.2.1 TiO_2薄膜工艺参数的确定 |
3.2.2 TiO_2薄膜可见光透过率分析 |
3.2.3 TiO_2薄膜粗糙度分析 |
3.2.4 TiO_2薄膜表面形貌分析 |
3.3 WO_3、TiO_2混合薄膜的制备 |
3.3.1 单层WO_3、TiO_2混合薄膜的制备 |
3.3.2 单层WO_3、TiO_2混合薄膜的表面形貌分析 |
3.3.3 单层WO_3、TiO_2混合薄膜的变色效率 |
3.3.4 单层WO_3、TiO_2混合薄膜的可见光透过率分析 |
3.4 WO_3-TiO_2复合薄膜的制备 |
3.4.1 WO_3-TiO_2复合薄膜的制备 |
3.4.2 WO_3-TiO_2复合薄膜的表面形貌分析 |
3.4.3 WO_3-TiO_2复合薄膜的变色效率 |
3.4.4 WO_3-TiO_2复合薄膜的可见光透过率分析 |
3.5 TiO_2-WO_3复合薄膜的制备 |
3.5.1 TiO_2-WO_3复合薄膜的制备 |
3.5.2 TiO_2-WO_3复合薄膜的表面形貌分析 |
3.5.3 TiO_2-WO_3复合薄膜的变色效率 |
3.5.4 TiO_2-WO_3复合薄膜的可见光透过率分析 |
3.6 本章小结 |
4 TiO_2-WO_3-ZnO薄膜的制备 |
4.1 ZnO薄膜的制备 |
4.1.1 ZnO薄膜工艺参数的确定 |
4.1.2 ZnO薄膜可见光透过率分析 |
4.1.3 ZnO薄膜的粗糙度分析 |
4.1.4 ZnO薄膜的表面形貌分析 |
4.2 WO_3-TiO_2-ZnO多层薄膜 |
4.2.1 WO_3-TiO_2-ZnO多层薄膜的制备 |
4.2.2 WO_3-TiO_2-ZnO多层薄膜的表面形貌 |
4.2.3 WO_3-TiO_2-ZnO多层薄膜的变色效率 |
4.2.4 WO_3-TiO_2-ZnO多层薄膜的表面结构分析 |
4.3 TiO_2-WO_3-ZnO多层薄膜 |
4.3.1 TiO_2-WO_3-ZnO多层薄膜的制备 |
4.3.2 TiO_2-WO_3-ZnO多层薄膜的表面形貌 |
4.3.3 TiO_2-WO_3-ZnO多层薄膜的变色效率 |
4.3.4 TiO_2-WO_3-ZnO多层薄膜的表面结构分析 |
4.3.5 可见光透过率比较 |
4.4 TiO_2-WO_3-ZnO样品的测试与分析 |
4.4.1 膜基结合力分析 |
4.4.2 抗压测试性能分析 |
4.4.3 样品亲水性测试 |
4.4.4 红外反射率分析 |
4.5 本章小结 |
5 溶胶-凝胶法制备光致变色玻璃 |
5.1 药品和仪器 |
5.1.1 实验药品 |
5.1.2 实验仪器 |
5.2 样品的制备 |
5.2.1 样品WO_3 |
5.2.2 样品TiO_2 |
5.2.3 样品ZnO |
5.2.4 样品TiO_2-WO_3 |
5.2.5 样品TiO_2-WO_3-ZnO |
5.3 光致变色玻璃透过率对比 |
5.4 镀膜玻璃和凝胶玻璃的比较 |
5.4.1 实验原材料比较 |
5.4.2 样品透过率比较 |
5.4.3 样品表面形貌比较 |
5.4.4 样品膜基结合力比较 |
5.5 本章小结 |
6 结论 |
参考文献 |
作者简介 |
作者在攻读硕士学位期间获得的学术成果 |
致谢 |
(10)双排全幅宽无间隔布局快速蒸发ZnS镀膜技术的研究(论文提纲范文)
1 实验方法 |
2 技术特点分析与讨论 |
2.1 折回式条带状折槽形式Mo蒸发舟设计 |
2.2 蒸发舟双排全幅宽无间隔布局和双冷却镀膜辊悬浮平展镀膜 |
2.3 蒸发舟设计蒸发气体均匀分配器 |
3 结论 |
四、我国研制出光学镀膜防伪材料(论文参考文献)
- [1]基于亚波长结构的三色防伪光变器研究[D]. 袁霞. 深圳大学, 2017(07)
- [2]告警探测系统中日盲紫外薄膜的关键技术研究[D]. 寇洋. 长春理工大学, 2016(02)
- [3]环保型光学变色纳米薄膜材料的制备研究[D]. 章兴洲. 武汉工程大学, 2014(04)
- [4]连续沉积硫化锌薄膜技术及设备的研制[A]. 杨树本,徐玉江. 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集, 2005
- [5]特种光学镀膜材料[J]. 晓舒. 光机电信息, 2002(01)
- [6]应用于微加工的准分子激光关键技术研究[D]. 徐健. 合肥工业大学, 2020(02)
- [7]多波段隐身薄膜性能优化及卷绕式制备技术研究[D]. 王航. 国防科技大学, 2019(02)
- [8]高效稳定可调稀土紫外增强薄膜的制备与性能研究[D]. 李志远. 合肥工业大学, 2019(01)
- [9]磁控溅射制备光致变色玻璃及性能的研究[D]. 朱丹. 沈阳建筑大学, 2019(05)
- [10]双排全幅宽无间隔布局快速蒸发ZnS镀膜技术的研究[J]. 罗军文. 真空, 2014(03)
标签:红外技术论文;