一、缩小投影电子束曝光机的调试技术（论文文献综述）
刘江辉[1]（2021）在《基于空域能量积分编码调制的微结构数字光刻方法研究》文中研究说明基于数字微反射镜（Digital Micro-Mirror Device,DMD）的数字光刻方法使用DMD作为动态掩模图案生成装置,有效的避免了使用物理掩模版所引入的加工成本和工艺缺陷,同时也可以结合步进曝光或者扫描曝光等方式获得较好的加工效率和产出率,在二维平面微纳结构加工及三维微纳结构加工方面有着巨大的优势和良好的应用前景。然而,目前对于基于DMD的数字光刻技术的研究主要围绕在系统结构改善与加工原理优化,缺少对数字光刻技术本身潜力的开发运用。为此,本课题针对DMD器件的类三维空间光场调制能力进行了详细的研究分析,并探索了这一特性在数字光刻技术中的具体应用,从而进一步提升了数字光刻技术低成本、高效率、高灵活性的性能优势。首先,基于数字光刻系统的模型分析。本文在起始章节详细的阐述了基于DMD的数字光刻实验系统及子系统模块,并对其中的核心系统进行了拆解分析,包括照明系统方案的选择与设计、光学检焦方案的选择与设计、投影成像系统的参数耦合分析等。随后结合实验室实际工艺环境与本课题的研究需求,搭建了最小分辨率约为1.3um,曝光视场约为1.4mm×1.05mm的数字光刻实验系统。在此实验系统的基础上,开展了如下研究:（1）结合DMD动态生成掩模图案的特性,在分层切片式的类三维光场多步调控方法的基础上,对比分析了基于脉冲宽度编码调制的类三维光场单步调控方法,并以此建立了DMD像素化光场的类三维调控模型。（2）通过理论推导与实际曝光测试,分析了光敏介质与类三维光场的三维相互作用关系,提出了一种基于像素点灰度编码的曝光场均匀性优化技术,在无需成本的同时可以有效改善数字光刻系统的加工能力。（3）校正补偿了DMD类三维光场调控中由于脉冲触发沿等因素引起的非线性效应,从而实现了像素点光场强度的精确控制,在此基础上实现了一种平面微复眼结构的快速制备,并通过后续的表面形貌及光学性能测试验证了本方法加工复杂三维微结构的有效性。（4）在基于部分相干成像理论的基础上,仿真分析了数字光刻技术在小尺度出现的光学邻近效应现象,并结合DMD类三维光场与光敏介质在二维层面上的相互作用模型,提出了一种基于像素点编码优化的光学邻近效应优化方法,通过编码方式精确控制微反射镜在像方的光场能量并改善投影曝光区域的尺寸,通过逐点修正的方式优化理想曝光图案与实际曝光图案之间的不匹配度。本课题研究了目前数字光刻技术中存在的主要缺陷,且围绕DMD的类三维光场调控技术提出了相应的解决方案,并通过理论分析、数值仿真与实验验证的方式,验证了本课题提出方案的有效性,从而进一步拓展数字光刻低成本、高效率、高灵活性的工艺特点,并为数字光刻向更低尺度的发展提供了理论依据和技术支撑。
吴文涛,王振亚,徐磊[2]（2016）在《基于NBL电子束曝光系统合轴研究》文中研究说明详述了电子束曝光系统的原理、种类、系统的构成和合轴的原理,以及如何使NBL（微纳投影）电子束曝光系统更好、更快地进行合轴,从而使NBL电子束曝光机处于最佳工作状态。
王强[3]（2007）在《微型紫外光刻系统的研究》文中指出光学光刻技术一直是微加工技术的主流技术之一,是近来世界各国研究的重点。本论文在纵观了光学光刻技术的国内外发展现状的基础上,针对高校、普通研究所等科研单位的需求,进行了一种价格低、结构简单、操作方便的不同于以往光刻系统的新型光刻技术——紫外扫描光刻技术的研究,具有十分重要的理论意义和迫切的需求背景。论文在全面分析了现有几种光刻方式各自特点的基础上,对球面波的传输、整形特性,以及聚焦时光强极大值点的焦移等问题作了详细的研究,提出了一种集合了电子束光刻和光学光刻各自优点的扫描式光刻的新思想和新方法。进行了紫外扫描光刻系统光学部分的结构设计、分析和模拟仿真,确定了系统整体方案;进行了驱动电路、光学耦合方式、光束聚焦方式等关键技术的探索研究,并搭建实验平台,进行相关的测试和实验分析。论文的主要研究工作是:1.分析微加工技术的国内外发展现状,特别是对光学光刻的发展现状和趋势进行全面的分析;2.比较目前常用的几种紫外光源,选择合适的光源,并对其驱动电路进行仿真设计和实验分析;3.较深入地比较分析球面波与高斯光束的特点,对光学耦合系统和光束聚焦系统进行详细的分析和设计;4.进行相关的光学实验,并对实验结果进行分析和讨论。
王强[4]（2007）在《用于紫外光刻的聚焦光学系统的研究》文中认为光学光刻技术一直是微加工技术的主流技术之一,是近来世界各国研究的重点。本论文在纵观了光学光刻技术的国内外发展现状的基础上,针对高校、普通研究所等科研单位的需求,进行了一种成本低、结构简单的用于紫外光刻的聚焦光学系统的研究,具有十分重要的理论意义和迫切的需求背景。论文在全面分析了现有几种光刻方式各自特点的基础上,对球面波的传输、整形特性,以及聚焦时光强极大值点的焦移等问题作了详细的研究,提出了一种集合了电子束光刻和光学光刻各自优点的扫描式光刻的新思想和新方法。进行了紫外光刻中聚焦光学系统的结构设计、分析和模拟仿真,确定了系统整体方案;进行了驱动电路、光学耦合方式、光束聚焦方式等关键技术的探索研究,并搭建实验平台,进行相关的测试和实验分析。论文的主要研究工作是:1.分析微加工技术的国内外发展现状,特别是对光学光刻的发展现状和趋势进行全面的分析;2.比较目前常用的几种紫外光源,选择合适的光源,并对其驱动电路进行仿真设计和实验分析;3.较深入地比较分析球面波与高斯光束的特点,对光学耦合系统和光束聚焦系统进行详细的分析和设计;4.进行相关的光学实验,并对实验结果进行分析和讨论。
刘伟[5]（2006）在《纳米级电子束曝光系统用图形发生器技术研究》文中研究指明纳米级电子束曝光系统是微纳加工的重要设备,图形发生器是电子束曝光系统的核心部件,包括硬件和软件两部分。硬件设计吸纳了近年来数字信号处理的最新成果,利用高性能数字信号处理器（DSP）将要曝光的单元图形拆分成线条和点,然后通过优化设计的数模转换电路,将数字量转化成高精度的模拟量,驱动扫描电镜的偏转器,实现电子束的扫描。为此目的特构建了x方向和y方向两组数模转换电路,每组包括1个16位主数模和3个16位乘法数模。通过图形发生器可以对标准样片进行图像采集,进行扫描场的线性畸变校正,包括扫描场增益、旋转和位移校正。另外,图形发生器还可以控制束闸的通断。配合精密定位工件台和激光干涉仪,可以实现曝光场的拼接,拼接精度优于0. 2μm。通过检测芯片的标记,还可以实现曝光图形的套刻。利用配套软件既可以新建曝光图形,也可以导入通用格式文件,例如CIF和GDSII文件,进行曝光参数设置、图形修正、图形分割、邻近效应修正等工作,然后将曝光图形数据转换成图形发生器可以识别的EDF文件,完成曝光图形的准备工作。图形发生器可直接处理的单元图形包括:矩形、梯形、折线、点、圆及圆环。该图形发生器能够与扫描电子显微镜、聚焦离子束设备以及扫描探针显微镜连接,组建成纳米级光刻系统。我们将图形发生器与JSM-6360（LaB6阴极）扫描电子显微镜连接,进行了大量实验,得到了多组曝光图形,最细线条为28 .6nm。
李晨菲[6]（2005）在《扫描电子束曝光机背散射电子检测与对准技术的研究》文中研究说明本文通过对扫描电子束曝光机标记信号检测及对准技术的分析,提出了背散射检测电路的设计方案和电路原理图,给出了实验结果;总结了电子束扫描场畸变的种类,给出了线性畸变的自动校正软件的设计方案和流程图;介绍了非线性畸变校正的方法。由于背散射电子信号的图像既可以显示样品的形貌也可以显示样品的成分所以选择背散射电子信号进行标记位置检测。检测器采用的是双半圆环形的半导体检测器。背散射检测电路是由检测器、模拟信号处理电路、A/D 转换器、数字信号处理、计算机和控制单元组成的。为了提高电路的抗干扰能力,从电路原理图设计到PCB 板制作都采取了一些抑制噪声的措施,本文对此做了详细介绍。总结了扫描场畸变的种类,以制作好的检测电路和现有的图形发生器为硬件基础,设计了扫描场线性畸变的自动校正软件。该软件是在Windows XP 操作系统中用C 语言实现的。在程序中采用了许多技术手段,包括降噪处理、二值化、数字增强技术等。扫描场的非线性畸变种类较多,情况复杂,相应的校正方法也很多,可以作为以后深入研究的方向之一。文章最后讨论了课题的特点以及可能的发展方向。
王颖[7]（2005）在《Ee～-BES-40A光栅扫描电子束曝光机控制系统的改进研究》文中提出集成电路产业是现代信息产业的基础,是改造和提升传统产业的核心技术。随着微细加工技术的进步,集成电路的特征线宽进入到深亚微米领域,电子束曝光代表了最成熟的亚微米级曝光技术,是近年来发展极快且实用性较强的曝光技术。电子束曝光技术的显着优点就是分辨率高,灵活性强,容易获得亚微米分辨率的精细图形。电子束曝光技术这些优势使电子束曝光技术不仅在掩模版制作方面一直处于主流地位而且将在纳米器件的研制和生产中发挥重要作用。 本文从研究电子束曝光系统的基本原理入手,着重研究了现有的Ee-BES—40A光栅扫描电子束曝光机控制系统的控制原理和控制条件。Ee-BES—40A是第二代电子束曝光系统,是一个集电子光学、精密机械、超高真空、计算机自动控制等近代高新技术于一体的复杂系统,主要用于在大规模集成电路（LSIC）中制作图形掩模和光栅。Ee-BES—40A光栅扫描电子束曝光机机械部分较为精密,并且其多项技术指标在国内处于较为先进的水平。将该机器恢复起来可满足近几年微机械、生物芯片、激光器件等的研制要求。但原控制系统中的计算机太陈旧,计算机的有些配件已被淘汰,给维护曝光机控制系统带来了困难。而PC机具有更好的性能,更快的处理速度以及更大的存储容量。所以,我们把曝光机的控制计算机用PC机替换下来。原有曝光机采用光栅扫描方式,但加工方式光栅扫描方式没有矢量扫描方式灵活。在我们涉足的三维加工研中,MEMS（微机电系统）的图形更为复杂,对图形扫描灵活性的要求大大提高。无疑选择矢量扫描方式更符合我们研究发展的要求。因此我们另一个改进要点就是将电子束光栅扫描曝光方式改为电子束矢量扫描曝光。改进该曝光机控制部分将为电子束三维加工曝光技术方面的实验研究提供必要的工具和条件,对推动微细加工及MEMS方面的发展起到积极的作用。 Ee-BES—40A由三台计算机控制,分别是Eclipse主控计算机、Minicon专用计算机和8080微控制器,此外还包括一些测量和驱动接口及控制器。本论文在研究原曝光机控制机理制后,又深入研究了该曝光机的光柱调整、标记检测、激光测量系统和工作台等机械部件的功能。在掌握原有控
彭开武,田丰[8]（2005）在《纳米级高压扫描电子束曝光技术》文中研究说明通过简单添加一些附件,将一台带有扫描附件的商用透射电子显微镜改造为一台高压扫描电子束曝光机,以研究高压下高分辨率、高深宽比抗蚀剂图形曝光及邻近效应的影响。重点介绍了如何获得一个高分辨率的电子光学系统,并利用此系统初步进行了曝光实验,在120nm厚的PMMA胶上获得了53nm线宽的抗蚀剂图形,表明此装置可用于纳米图形的制作。
郭颖[9]（2004）在《基于DSP的新型图形发生器主控制器的研究》文中认为电子束曝光机是目前微细加工领域极具前途的一种光刻手段，是纳米级图形加工的理想方式。图形发生器是电子束曝光机的关键部件，本论文针对现有的图形发生器存在的主要问题，借鉴了当今国内外电子束曝光机图形发生器的长处与不足，采用DSP芯片作为图形数据处理的核心单元，提出了一套功能完备的新型扫描电子束曝光机图形发生器的硬件设计方案。 本论文分为五个章节主要介绍了电子束曝光技术的发展背景、图形发生器的工作原理与国内外现状、图形发生器的总体方案设计、图形发生器硬件电路设计（包括DSP数字信号处理电路、数据传输接口电路、存储器扩展电路、逻辑控制电路、标记检测控制电路、曝光控制电路和束闸控制电路）、电路调试与验证、CPLD控制软件设计与仿真等。 本方案具有数据处理能力强、运算速度快、接口方便等优点，克服了传统图形发生器单纯依靠软件完成，速度慢，精度低，工作不稳定的缺点。目前图形发生器硬件设计工作已基本完成。并通过调试成功的实现了DSP引导装载、存储器读写、接口数据传输与片上器件的逻辑控制等功能。
杨浩伟[10]（2004）在《基于DSP的图形发生器系统的曝光软件研究》文中研究表明本论文主要介绍了图形发生器软件系统中，涉及曝光功能的软件部分的研究。 论文分析了国内外电子束曝光技术的发展和图形发生器的工作原理。针对现有图形发生器存在的问题，对TI公司的TMS320VC33功能进和系统软件的开发进行分析，将以DSP芯片为核心的新型图形发生器的曝光软件系统分成两部分：上位机与下位机，分别进行开发。 第一部分是上位机——PC机上的系统程序。在借鉴CIF、GDSⅡ等文件格式的基础上，论文首先完成了曝光机系统文件的定义：图形处理格式、曝光文件存储格式和曝光文件发送格式。论文比较和论证了几种计算机接口，最终选择USB2.0作为上位机与下位机之间文件传输接口，并为其编写了驱动程序及能够完成设计功能的简单的客户端程序。 第二部分是下位机——DSP上的单元图形曝光算法。论文在分析前人工作的基础上，提出了新的单元图形生成算法。该方法通过利用DSP出众的计算功能，将各种图形的计算尽可能转化为加、减、乘法，在经过修正设计后可以做出令人满意的图形。这种算法应用于以DSP芯片为基础的电子束曝光机图形发生器，简化了数据处理过程并提高了图形绘制速度和图形精度，具有不输于Bresenham算法的效率。 本论文从图形发生器的软件部分入手，研究了图形发生器的结构和工作原理。系统的曝光控制程序和单元图形生成算法的研究和实现是本论文的核心内容。
二、缩小投影电子束曝光机的调试技术（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、缩小投影电子束曝光机的调试技术（论文提纲范文）
（1）基于空域能量积分编码调制的微结构数字光刻方法研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 复制型微纳加工技术 |
| 1.2.1 光学投影光刻 |
| 1.2.2 纳米压印技术 |
| 1.3 生成型加工技术 |
| 1.3.1 电子束直写式曝光 |
| 1.3.2 微球超分辨光刻 |
| 1.4 数字光刻技术 |
| 1.4.1 空间光调制器简介 |
| 1.4.2 基于DMD的数字光刻技术基本工作原理 |
| 1.4.3 基于DMD的数字光刻技术研究现状 |
| 1.5 本文主要研究内容与章节安排 |
| 第2章 基于DMD的数字光刻系统设计及搭建 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 基于DMD的数字光刻系统框架 |
| 2.2.1 照明系统 |
| 2.2.2 掩模生成器件:数字微镜(DMD) |
| 2.2.3 光学投影系统 |
| 2.2.4 光学检焦方案 |
| 2.3 系统集成及调试 |
| 2.3.1 光刻系统整体光路原理图 |
| 2.3.2 数字光刻系统零部件选购与加工 |
| 2.3.3 数字光刻系统调试 |
| 2.4 本章内容小结 |
| 第3章 基于DMD的类三维空间光场编码调制技术 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 光敏介质的感光模型 |
| 3.2.1 正性/负性光刻胶 |
| 3.2.2 光刻胶的感光模型 |
| 3.3 基于聚合叠加方式的类三维光场多步调控方法 |
| 3.4 DMD类三维光场单步调控方法 |
| 3.4.1 基于空间编码调制的等效灰度调控方法 |
| 3.4.2 基于脉冲宽度编码调制原理的单步调控方法 |
| 3.4.3 基于脉冲宽度编码调制的类三维光场光刻理论 |
| 3.5 基于类三维光场编码技术的曝光场均匀性优化 |
| 3.6 本章小结 |
| 第4章 类三维光场调控实现微复眼结构的快速制备 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 仿生微复眼的研究现状 |
| 4.3 微复眼设计及成型工艺 |
| 4.3.1 微复眼结构设计 |
| 4.3.2 灰度编码掩模设计 |
| 4.3.3 微复眼的快速制备 |
| 4.4 仿生微复眼制备结果与分析 |
| 4.4.1 微复眼制备结果 |
| 4.4.2 微复眼器件形貌分析 |
| 4.4.3 微复眼光学性能分析 |
| 4.5 本章小节 |
| 第5章 基于DMD的数字光刻中邻近效应编码校正技术 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 数字光刻相关成像理论 |
| 5.2.1 Huygens-Fresnel原理 |
| 5.2.2 Fraunhofer衍射理论 |
| 5.2.3 部分相干成像理论 |
| 5.3 光学投影光刻中的邻近效应及其优化技术 |
| 5.3.1 光学邻近效应引论 |
| 5.3.2 常见的光学邻近效应优化技术 |
| 5.4 数字光刻中的邻近效应及其编码优化技术 |
| 5.4.1 数字光刻中的邻近效应 |
| 5.4.2 常规光学邻近效应优化技术的局限性 |
| 5.4.3 数字光刻中的邻近效应优化理论 |
| 5.4.4 优化结果分析 |
| 5.5 本章小结 |
| 第6章 总结与展望 |
| 6.1 本文工作内容总结 |
| 6.2 论文创新点 |
| 6.3 研究展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 |
（2）基于NBL电子束曝光系统合轴研究（论文提纲范文）
| 1 电子束曝光的原理和优缺点 |
| 1.1 电子束曝光系统的原理 |
| 1.2 电子束曝光的优缺点 |
| 2 电子束曝光系统的种类 |
| 2.1 基于改进扫描电镜(SEM)的电子束曝光系统 |
| 2.2 高斯电子束曝光系统 |
| 2.3 成型电子束曝光系统 |
| 2.4 投影电子束曝光系统 |
| 3 NBL电子束的介绍 |
| 3.1 NBL电子光学曝光系统的基本组成 |
| 3.2 NBL电子束合轴原理 |
| 3.3 NBL电子束合轴调节顺序 |
| 3.3.1 电子枪的合轴 |
| 3.3.2 聚光镜的合轴 |
| 3.3.3 偏转部分的合轴 |
| 3.4 NBL的自动合轴调节 |
| 4 结论 |
（3）微型紫外光刻系统的研究（论文提纲范文）
| 中文摘要 |
| 英文摘要 |
| 1 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 微加工的发展现状 |
| 1.3 光刻技术的国内外现状 |
| 1.4 曝光技术 |
| 1.4.1 光学曝光 |
| 1.4.2 电子束曝光 |
| 1.4.3 X 射线曝光 |
| 1.4.4 离子束曝光 |
| 1.5 本论文的研究意义和主要研究内容 |
| 2 光源的选择及其驱动电路的分析设计 |
| 2.1 序言 |
| 2.2 紫外光源的比较和选择 |
| 2.2.1 汞灯 |
| 2.2.2 半导体激光器(LD) |
| 2.2.3 发光二极管（LED） |
| 2.3 驱动电路的分析设计 |
| 2.3.1 驱动电路的总体设计与器件选择 |
| 2.3.2 电路原理分析 |
| 2.3.3 驱动电路的模拟分析 |
| 3 光学耦合系统 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 光纤的选择 |
| 3.3 球面波与高斯光束的比较 |
| 3.3.1 高斯光束 |
| 3.3.2 球面波 |
| 3.4 光学耦合系统的设计与相关计算 |
| 3.4.1 系统初始结构分析 |
| 3.4.2 组合镜头的初始结构设计 |
| 3.4.3 组合镜头的结构优化设计 |
| 4 光束整形聚焦系统 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 光束聚焦系统的比较和选择 |
| 4.2.1 自聚焦透镜系统 |
| 4.2.2 椭球面反射系统 |
| 4.2.3 多透镜系统 |
| 4.3 球面波的焦移 |
| 4.3.1 球面波的轴上聚焦光强分布 |
| 4.3.2 球面波的焦移 |
| 4.4 光束聚焦系统的设计与相关计算 |
| 4.4.1 系统光学性能参数的设计 |
| 4.4.2 镜头结构型式设计 |
| 5 光刻系统的相关实验及结果分析 |
| 5.1 驱动电路的实验及结果分析 |
| 5.2 光学实验及结果分析 |
| 5.2.1 LED 光源与汞灯光源对光敏的固化实验 |
| 5.2.2 光纤端面加工 |
| 5.2.3 光学实验结果及分析 |
| 6 结论与展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 附录：作者在攻读硕士学位期间发表的论文 |
（4）用于紫外光刻的聚焦光学系统的研究（论文提纲范文）
| 中文摘要 |
| 英文摘要 |
| 1 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 微加工的发展现状 |
| 1.3 光刻技术的国内外现状 |
| 1.4 曝光技术 |
| 1.4.1 光学曝光 |
| 1.4.2 电子束曝光 |
| 1.4.3 X 射线曝光 |
| 1.4.4 离子束曝光 |
| 1.5 本论文的研究意义和主要研究内容 |
| 2 光源的选择及其驱动电路的分析设计 |
| 2.1 序言 |
| 2.2 紫外光源的比较和选择 |
| 2.2.1 汞灯 |
| 2.2.2 半导体激光器(LD) |
| 2.2.3 发光二极管（LED） |
| 2.3 驱动电路的分析设计 |
| 2.3.1 驱动电路的总体设计与器件选择 |
| 2.3.2 电路原理分析 |
| 2.3.3 驱动电路的模拟分析 |
| 3 光学耦合系统 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 光纤的选择 |
| 3.3 球面波与高斯光束的比较 |
| 3.3.1 高斯光束 |
| 3.3.2 球面波 |
| 3.4 光学耦合系统的设计与相关计算 |
| 3.4.1 系统初始结构分析 |
| 3.4.2 组合镜头的初始结构设计 |
| 3.4.3 组合镜头的结构优化设计 |
| 4 光束整形聚焦系统 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 光束整形聚焦系统的比较和选择 |
| 4.2.1 自聚焦透镜系统 |
| 4.2.2 椭球面反射系统 |
| 4.2.3 多透镜系统 |
| 4.3 球面波的焦移 |
| 4.3.1 球面波的轴上聚焦光强分布 |
| 4.3.2 球面波的焦移 |
| 4.4 光束聚焦系统的设计与相关计算 |
| 4.4.1 系统光学性能参数的设计 |
| 4.4.2 镜头结构型式设计 |
| 5 系统的相关实验及结果分析 |
| 5.1 驱动电路的实验及结果分析 |
| 5.2 光学实验及结果分析 |
| 5.2.1 LED 光源与汞灯光源对光敏的固化实验 |
| 5.2.2 光纤端面加工 |
| 5.2.3 光学实验结果及分析 |
| 6 结论与展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 附录 作者在攻读硕士学位期间发表的论文 |
（5）纳米级电子束曝光系统用图形发生器技术研究（论文提纲范文）
| 一、 前言 |
| 二、 图形发生器软件系统 |
| 三、 图形发生器硬件架构 |
| 四、 曝光控制 |
| 五、 扫描场校正 |
| 六、 拼接和套刻 |
| 七、 实验结果 |
| 八、 总结 |
| 参考文献 |
| 发表论文 |
| 致谢 |
| 附录一 |
| 附录二 |
| 附录三 |
| 附录四 |
| 论文答辩说明 |
| 关于论文使用授权的说明 |
（6）扫描电子束曝光机背散射电子检测与对准技术的研究（论文提纲范文）
| 第一章 引言 |
| 1.1 电子束曝光技术 |
| 1.1.1 曝光技术 |
| 1.1.2 电子束曝光技术的发展历史和现状 |
| 1.1.3 电子束曝光系统的分类 |
| 1.2 扫描电子束曝光技术 |
| 1.3 扫描电子束曝光技术的研究现状 |
| 1.3.1 日本JEOL 公司 |
| 1.3.2 德国 Lecia-Cambridge 公司 |
| 第二章 课题的主要任务 |
| 2.1 课题背景 |
| 2.2 课题任务 |
| 第三章 背散射电子信号检测 |
| 3.1 背散射电子特性 |
| 3.1.1 背散射电子信号与二次电子信号的比较 |
| 3.1.2 背散射电子信号的特性 |
| 3.2 背散射电子检测电路的组成 |
| 3.2.1 背散射电子探测器 |
| 3.2.2 模拟信号处理电路 |
| 3.3 PCB 板设计中的防噪声措施 |
| 3.3.1 针对微小电压放大采取的抗干扰措施 |
| 3.3.2 大平面接地方式的PCB 板设计 |
| 3.3.3在装配工艺上的措施 |
| 3.3.4 关于电位器的注意事项 |
| 3.4 实验结果及结论 |
| 第四章 检测对准技术 |
| 4.1 检测对准技术 |
| 4.1.1 检测对准技术的作用 |
| 4.1.2 影响电子束曝光系统精度的因素 |
| 4.1.3 电子束曝光设备对准技术介绍 |
| 4.2 扫描电子束曝光机检测对准校 |
| 4.2.1 掩模版制作过程中的对准 |
| 4.2.2 电子束直接曝光的对准 |
| 第五章扫描场畸变校正 |
| 5.1 线性畸变校正及软件设计 |
| 5.1.1 线性畸变校正原理 |
| 5.1.2 图形发生器 |
| 5.1.3 校正软件流程图 |
| 5.1.4 场的拼接实验 |
| 5.2 非线性畸变的类型及校正方法 |
| 5.2.1 非线性畸变的类型 |
| 5.2.2 非线性畸变的校正方法 |
| 第六章结论 |
| 6.1 课题的特点 |
| 6.2 课题的进展 |
| 6.3 课题的深入研究 |
| 附录一 校正软件部分源程序 |
| 附录二 校正电PCB 原理图 |
| 附录三 校正电路PCB 图 |
| 附录四 校正电路PCB 板 |
| 参考文献 |
| 发表文章 |
| 致谢 |
（7）Ee～-BES-40A光栅扫描电子束曝光机控制系统的改进研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 集成电路的发展现状和发展趋势 |
| 1.2 微机电系统的发展 |
| 1.2.1 概念 |
| 1.2.2 微机电系统的特点及应用 |
| 1.2.3 国内外研究现状 |
| 1.3 电子束曝光技术 |
| 1.3.1 电子束曝光技术特点 |
| 1.3.2 电子束曝光技术的应用 |
| 1.3.3 电子束曝光技术的限制 |
| 第二章 电子束曝光机 |
| 2.1 电子束曝光机的发展历史及现状 |
| 2.1.1 国外发展状况 |
| 2.1.2 国内发展状况 |
| 2.2 电子束曝光机的原理及组成 |
| 2.2.1 电子束曝光机的组成 |
| 2.2.2 电子束曝光机的曝光原理 |
| 2.3 电子束曝光机的扫描方式 |
| 2.3.1 光栅扫描 |
| 2.3.2 矢量扫描 |
| 第三章 Ee~-BES-40A电子束曝光系统 |
| 3.1 系统简介 |
| 3.1.1 概况 |
| 3.1.2 主要单元 |
| 3.2 曝光主机系统硬件 |
| 3.2.1 光学系统 |
| 3.2.2 电子枪 |
| 3.2.3 电子光主体 |
| 3.2.4 工作室、工作台及其驱动 |
| 3.2.5 激光干涉定位系统 |
| 3.2.6 换片机构 |
| 3.2.7 真空系统 |
| 3.2.8 空气悬浮系统 |
| 3.3 控制台系统硬件 |
| 3.3.1 Eclipse计算机 |
| 3.3.2 主终端和辅助终端 |
| 3.3.3 微控(Minicon)和图形存储器 |
| 3.3.4 工件台控制接口和伺服放大器 |
| 3.3.5 通用I/O接口 |
| 3.3.6 换片机构控制器 |
| 3.3.7 离子泵控制器 |
| 3.3.8 电子束控制单元 |
| 3.3.9 电源 |
| 3.4 刻写系统 |
| 3.4.1 条带 |
| 3.4.2 位图 |
| 3.4.3 地址 |
| 3.5 软件系统简介 |
| 3.5.1 Eclipse:系统控制器 |
| 3.5.2 RDOS |
| 3.5.3 CLI |
| 3.5.4 文件 |
| 3.5.5 数据处理软件 |
| 3.6 Ee~-BES-40A光栅扫描曝光机的性能分析 |
| 第四章 Ee~-BES-40A工件台扫描控制系统 |
| 4.1 控制系统 |
| 4.2 工件台扫描系统组成 |
| 4.3 控制原理及过程 |
| 4.3.1 控制原理 |
| 4.3.2 控制过程 |
| 4.4 工件台控制接口 |
| 4.4.1 控制接口 |
| 4.4.2 I/O板 |
| 4.4.3 控制板 |
| 4.4.4 轴板 |
| 4.3.5 速度板 |
| 4.4.6 激光接口板和消息单元板 |
| 4.3.7 电压鉴别板 |
| 4.3.8 终端和读出(T&R)板 |
| 第五章 图形发生器及接口设计 |
| 5.1 Ee~-BES-40A电子束曝光机的光栅扫描图形生成系统 |
| 5.1.1 微控制器的控制功能 |
| 5.1.2 微控制器的组成和指令格式 |
| 5.1.3 接口电路 |
| 5.1.4 图形存储器 |
| 5.2 矢量扫描图形发生器原理及实现 |
| 5.2.1 图形发生器原理 |
| 5.2.2 图形发生器数据信号 |
| 5.3 接口设计 |
| 5.3.1 ISA总线标准 |
| 5.3.2 端口 |
| 5.3.3 关于干扰 |
| 结束语 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 |
（8）纳米级高压扫描电子束曝光技术（论文提纲范文）
| 1 引言 |
| 2 曝光系统的实现 |
| 2.1 电子显微镜的选择 |
| 2.2 电子光学系统的选择 |
| 2.3 需添加的附件及防震措施 |
| 3 实验过程及结果 |
| 4 结论 |
（9）基于DSP的新型图形发生器主控制器的研究（论文提纲范文）
| 第一章 课题背景 |
| 一、 IC产业与微细加工: |
| 二、 曝光技术的主要研究领域 |
| 2.1 、 光学曝光 |
| 2.2 、 极紫外曝光 |
| 2.3 、 电子束曝光 |
| 2.4 、 X光曝光(XRL) |
| 2.5 、 离子束曝光 |
| 2.6 、 小结 |
| 三、 电子束曝光技术的历史及现状 |
| 第二章 课题内容 |
| 一、 问题的提出 |
| 1.1 、 图形发生器的重要性 |
| 1.2 、 图形发生器的历史与发展趋势 |
| 二、 设计思路 |
| 三、 开发步骤 |
| 四、 图形发生器系统硬件方案 |
| 4.1 、 数字信号处理单元 |
| 4.2 、 接口单元 |
| 4.3 、 标记检测控制单元 |
| 4.4 、 电子束控制单元 |
| 4.5 、 束闸控制单元 |
| 第三章 DSP核心电路设计 |
| 一、 DSP核心电路功能 |
| 二、 DSP芯片选型 |
| 2.1 、 DSP主流产品性能比较 |
| 2.2 、 芯片选型 |
| 三、 TMS320C6713芯片介绍 |
| 3.1 、 TMS320C6713硬件结构(图3.2) |
| 3.2 、 TMS320C6713性能指标 |
| 3.3 、 TMS320C6713地址分配 |
| 四、 TMS320C6713核心电路设计 |
| 五、 DSP软件设计 |
| 5.1 、 开发工具 |
| 5.2 、 开发流程图 |
| 第四章 DSP外围电路设计 |
| 一、 系统电源及复位设计 |
| 1.1 、 系统供电设计 |
| 1.2 、 电源监控设计 |
| 1.2.1 、 电源监控在高速电路板中的重要性 |
| 1.2.2 、 芯片的选用 |
| 1.2.3 、 电路连接 |
| 1.3 、 复位电路设计 |
| 二、 外部存储器扩展电路设计 |
| 2.1 、 TMS320C6713外部存储器接口(EMIF) |
| 2.1.1 、 EMIF接口特点 |
| 2.1.2 、 EMIF控制寄存器 |
| 2.2 、 ROM扩展 |
| 2.2.1 、 芯片选择 |
| 2.2.2 、 TMS320C6713与AM29LV800B的接口设计 |
| 2.2.3 、 自举逻辑控制 |
| 2.3 、 RAM扩展 |
| 2.3.1 、 RAM器件的选择 |
| 2.3.2 、 MT48LC4M16A2的结构特性 |
| 2.3.3 、 TMS320C6713与SDRAM之间的接口方案 |
| 2.3.4 、 SDRAM配置 |
| 三、 USB通讯接口设计 |
| 3.1 、 接口电路功能 |
| 3.2 、 接口芯片选择 |
| 3.3 、 CY7C68013结构及特性 |
| 3.4 、 接口电路设计 |
| 3.5 、 初始化列举过程 |
| 四、 标记检测单元 |
| 五、 曝光与束闸控制单元 |
| 第五章 实验与结论 |
| 一、 实验装置 |
| 二、 系统调试 |
| 三、 逻辑控制仿真 |
| 四、 接口数据传输 |
| 五、 总结与深入 |
| 5.1 、 课题总结 |
| 5.2 、 课题的深入研究 |
| 参考文献: |
| 致谢 |
| 论文答辩说明 |
| 关于论文使用授权的说明 |
（10）基于DSP的图形发生器系统的曝光软件研究（论文提纲范文）
| 第一章 电子束曝光技术背景 |
| 1.1 微纳技术 |
| 1.2 纳米加工及光刻 |
| 1.3 电子束光刻技术的发展 |
| 1.4 电子束曝光机结构组成 |
| 1.5 电子束曝光机研究现状 |
| 第二章 课题背景和意义 |
| 2.1 课题背景 |
| 2.1.1 图形发生器介绍 |
| 2.1.2 系统软件介绍 |
| 2.2 课题意义 |
| 2.3 课题任务 |
| 第三章 曝光机文件格式定义 |
| 3.1 曝光存储格式定义 |
| 3.1.1 格式定义意义 |
| 3.1.2 格式定义内容 |
| 3.2 曝光传输格式定义 |
| 3.2.1 握手命令 |
| 3.2.2 硬件控制 |
| 3.2.3 区域扫描 |
| 3.2.4 曝光命令 |
| 3.3 曝光文件解读程序 |
| 第四章 曝光机的通讯端口 |
| 4.1 设备硬件配置 |
| 4.1.1 接口选择 |
| 4.1.2 USB总线特点 |
| 4.1.3 硬件结构 |
| 4.2 设备软件配置 |
| 4.2.1 系统驱动程序 |
| 4.2.1.1 底层传输协议 |
| 4.2.1.2 系统I／O请求 |
| 4.2.1.3 Windows驱动的编写 |
| 4.2.1.4 客户态程序 |
| 4.2.2 固件程序 |
| 4.2.2.1 固件编程思想 |
| 4.2.2.2 数据通信 |
| 4.2.2.3 程序模块 |
| 第五章 单元曝光程序 |
| 5.1 曝光算法研究 |
| 5.2 实验装置 |
| 5.3 程序讨论 |
| 5.4 实验验证 |
| 5.4.1 正矩形 |
| 5.4.2 梯形 |
| 5.4.3 圆和椭圆 |
| 5.4.4 斜矩形 |
| 第六章 课题总结 |
| 6.1 课题研究进展 |
| 6.2 课题讨论 |
| 参考文献 |
| 文章发表 |
| 致谢 |
四、缩小投影电子束曝光机的调试技术（论文参考文献）
- [1]基于空域能量积分编码调制的微结构数字光刻方法研究[D]. 刘江辉. 中国科学院大学(中国科学院光电技术研究所), 2021(08)
- [2]基于NBL电子束曝光系统合轴研究[J]. 吴文涛,王振亚,徐磊. 电子工业专用设备, 2016(12)
- [3]微型紫外光刻系统的研究[D]. 王强. 重庆大学, 2007(06)
- [4]用于紫外光刻的聚焦光学系统的研究[D]. 王强. 重庆大学, 2007(05)
- [5]纳米级电子束曝光系统用图形发生器技术研究[D]. 刘伟. 中国科学院研究生院（电工研究所）, 2006(09)
- [6]扫描电子束曝光机背散射电子检测与对准技术的研究[D]. 李晨菲. 中国科学院研究生院（电工研究所）, 2005(06)
- [7]Ee～-BES-40A光栅扫描电子束曝光机控制系统的改进研究[D]. 王颖. 山东大学, 2005(08)
- [8]纳米级高压扫描电子束曝光技术[J]. 彭开武,田丰. 微纳电子技术, 2005(05)
- [9]基于DSP的新型图形发生器主控制器的研究[D]. 郭颖. 中国科学院研究生院（电工研究所）, 2004(04)
- [10]基于DSP的图形发生器系统的曝光软件研究[D]. 杨浩伟. 中国科学院研究生院（电工研究所）, 2004(04)